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不變形顆粒檢測

2025-03-10 關鍵詞:不變形顆粒測試儀器,不變形顆粒測試范圍,不變形顆粒測試方法 相關:
不變形顆粒檢測

不變形顆粒檢測摘要:不變形顆粒檢測是材料科學與工業(yè)制造領域的關鍵質量控制環(huán)節(jié),重點在于評估顆粒在加工及使用過程中維持幾何形態(tài)的能力。核心檢測指標包括粒徑分布、球形度、密度均勻性等參數(shù),需結合國際標準與精密儀器完成數(shù)據(jù)采集與分析,適用于金屬粉末、高分子材料、陶瓷原料等多元場景。

參考周期:常規(guī)試驗7-15工作日,加急試驗5個工作日。

注意:因業(yè)務調整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質的個人除外)。

檢測項目

粒徑分布:測量D10(1-5μm)、D50(10-50μm)、D90(50-200μm)

球形度偏差:要求≥0.85(1為理想球體)

密度均勻性:波動范圍≤±2%

表面粗糙度:Ra值≤0.8μm

抗壓強度:臨界值≥50MPa(視材料類別調整)

檢測范圍

金屬粉末:316L不銹鋼粉末、鈦合金粉體

高分子顆粒:ABS樹脂顆粒、PEEK工程塑料粒子

陶瓷原料:氧化鋁微球、氮化硅粉末

醫(yī)藥輔料:微晶纖維素球、硬脂酸鎂顆粒

電子材料:焊錫球(直徑0.1-0.76mm)、導電銀漿顆粒

檢測方法

ASTM B822:金屬粉末粒度分析標準方法

ISO 13322-1:靜態(tài)圖像分析法測定顆粒形態(tài)

GB/T 19077:粒度分布激光衍射法

ASTM D4179:單個球形顆??箟簭姸葴y定

GB/T 10516:亞甲藍吸附法測比表面積

檢測設備

激光粒度分析儀:Malvern Mastersizer 3000(測量范圍0.01-3500μm)

動態(tài)圖像分析系統(tǒng):Retsch CAMSIZER X2(形態(tài)學參數(shù)測量)

掃描電子顯微鏡:JEOL JSM-IT800(表面形貌觀察,分辨率3nm)

萬能材料試驗機:Instron 5967(壓力范圍0.02-30kN)

真密度分析儀:Micromeritics AccuPyc II 1340(氦氣置換法)

北京中科光析科學技術研究所【簡稱:中析研究所】

報告:可出具第三方檢測報告(電子版/紙質版)。

檢測周期:7~15工作日,可加急。

資質:旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質報告。

標準測試:嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測。

非標測試:支持定制化試驗方案。

售后:報告終身可查,工程師1v1服務。

中析儀器 資質

中析不變形顆粒檢測 - 由于篇幅有限,僅展示部分項目,如需咨詢詳細檢測項目,請咨詢在線工程師

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