參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1. 主成分分析

鎳（Ni）含量≥99.98%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)），檢測(cè)精度±0.005%

2. 雜質(zhì)元素檢測(cè)

鐵（Fe）≤0.003%、鈷（Co）≤0.002%、銅（Cu）≤0.001%、硫（S）≤0.0005%、碳（C）≤0.001%

3. 物理性能測(cè)試

密度8.90-8.92 g/cm3，維氏硬度HV 80-120，電導(dǎo)率≥14.9 MS/m

4. 微觀結(jié)構(gòu)分析

晶粒度等級(jí)≥6級(jí)（ASTM E112），夾雜物尺寸≤5μm

5. 表面潔凈度檢測(cè)

氧化層厚度≤0.2μm，表面粗糙度Ra≤0.8μm

檢測(cè)范圍

1. 電解精煉鎳板（純度≥99.99%）

2. 鎳基高溫合金（GH4169、Inconel 718等）

3. 高純鎳濺射靶材（半導(dǎo)體鍍膜用）

4. 鋰離子電池鎳鈷錳三元前驅(qū)體

5. 核工業(yè)用超純鎳箔（厚度0.05-1.0mm）

檢測(cè)方法

1. 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES）

標(biāo)準(zhǔn)：ASTM E1479-16（痕量元素定量）

2. 輝光放電質(zhì)譜法（GDMS）

標(biāo)準(zhǔn)：ISO 22033:2021（超痕量雜質(zhì)分析）

3. X射線熒光光譜法（XRF）

標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 223.5-2022（主成分快速篩查）

4. 惰性氣體熔融紅外法（氧氮分析）

標(biāo)準(zhǔn)：ASTM E1019-18（O、N、H元素測(cè)定）

5. 金相顯微鏡分析法

標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 13298-2015（晶粒尺寸與缺陷評(píng)估）

檢測(cè)設(shè)備

1. 全譜直讀ICP-OES

型號(hào)：Thermo Fisher iCAP PRO X，檢測(cè)限0.1ppm

2. 高分辨GDMS系統(tǒng)

型號(hào)：Nu Instruments Nu Plasma III，檢出限達(dá)ppb級(jí)

3. 波長(zhǎng)色散X熒光光譜儀

型號(hào)：Rigaku ZSX Primus IV，分析精度±0.01%

4. 氧氮?dú)渎?lián)測(cè)儀

型號(hào)：LECO ONH836，檢測(cè)范圍0.1-500ppm

5. 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）

型號(hào)：Hitachi SU5000，分辨率1.0nm@15kV

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)