參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.位錯(cuò)線寬度測(cè)量：分辨率≤0.2nm，測(cè)量誤差5%以內(nèi)

2.伯格斯矢量模量計(jì)算：精度達(dá)0.01

3.位錯(cuò)密度統(tǒng)計(jì)：分析區(qū)域≥5μm，密度范圍10?-10/cm

4.應(yīng)力場(chǎng)分布分析：應(yīng)變分辨率110??

5.層錯(cuò)能關(guān)聯(lián)性驗(yàn)證：能量計(jì)算誤差≤0.5mJ/m

檢測(cè)范圍

1.鎳基高溫合金單晶葉片（CMSX-4系列）

2.鈦鋁合金航空緊固件（Ti-6Al-4V）

3.第三代半導(dǎo)體碳化硅晶圓（4H-SiC）

4.核反應(yīng)堆壓力容器鋼（A508-III）

5.形狀記憶合金醫(yī)療器械（NiTiNOL）

檢測(cè)方法

1.ASTME112-13晶粒度測(cè)定法延伸應(yīng)用

2.ISO25498:2018微束分析-電子背散射衍射法

3.GB/T3949-2021金屬材料位錯(cuò)密度測(cè)定通則

4.ISO24173:2009納米束電子衍射技術(shù)規(guī)范

5.GB/T35031-2018透射電鏡薄膜樣品制備規(guī)程

檢測(cè)設(shè)備

1.FEITecnaiG2F20場(chǎng)發(fā)射透射電鏡：配備GatanOriusSC200相機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.19nm點(diǎn)分辨率

2.JEOLJEM-ARM300F球差校正電鏡：支持原子級(jí)位錯(cuò)核心結(jié)構(gòu)解析

3.BrukerD8DiscoverX射線衍射儀：配置VANTEC-500探測(cè)器，最小光斑尺寸50μm

4.TSLOIMAnalysisv8.0軟件：具備自動(dòng)位錯(cuò)密度計(jì)算模塊

5.GatanModel691離子減薄儀：支持雙槍傾轉(zhuǎn)樣品制備

6.ZeissCrossbeam550聚焦離子束系統(tǒng)：定位精度50nm的定點(diǎn)制樣

7.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD探測(cè)器：空間分辨率達(dá)3nm

8.Hummer6.2濺射鍍膜機(jī)：可控制Pt鍍層厚度1-5nm

9.FischioneModel1020等離子清洗機(jī)：保持樣品表面低污染度

10.DigiSTAR旋轉(zhuǎn)傾轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：傾轉(zhuǎn)范圍70，定位重復(fù)性0.1

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)