參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1. 腐蝕速率測(cè)定：采用失重法（精度±0.1mg/cm2）或電化學(xué)極化曲線法（掃描速率0.166mV/s）

2. 表面形貌分析：SEM觀測(cè)（分辨率3nm）與三維輪廓儀測(cè)量（Ra≤0.01μm）

3. 元素成分分析：EDS能譜（探測(cè)限0.1wt%）與XPS深度剖析（濺射速率0.5nm/s）

4. 鈍化膜特性：Mott-Schottky曲線測(cè)試（頻率1kHz）與開(kāi)路電位監(jiān)測(cè)（精度±1mV）

5. 局部腐蝕評(píng)估：微區(qū)電化學(xué)工作站（探針直徑10μm）與激光共聚焦觀測(cè)（Z軸分辨率0.5μm）

檢測(cè)范圍

1. 金屬合金：鈦合金（TC4）、鋁合金（6061）、不銹鋼（316L）的晶間腐蝕測(cè)試

2. 半導(dǎo)體材料：硅晶圓（<100>取向）與GaN外延層的各向異性刻蝕分析

3. 涂層材料：PVD氮化鈦涂層（厚度2-5μm）與熱障涂層的耐蝕性驗(yàn)證

4. 醫(yī)療器械：骨科植入物（CoCrMo）在模擬體液中的離子釋放量檢測(cè)

5. 電子元件：PCB銅箔（18μm）在酸性蝕刻液中的側(cè)蝕控制評(píng)估

檢測(cè)方法

1. ASTM G36-94(2018)：循環(huán)暴露于FeCl?溶液評(píng)估點(diǎn)蝕性能

2. ISO 17475:2005：電化學(xué)阻抗譜法測(cè)定鈍化膜電容值

3. GB/T 4334-2020：不銹鋼65%硝酸沸騰試驗(yàn)判定晶間腐蝕傾向

4. ASTM B117-19：鹽霧試驗(yàn)箱連續(xù)噴霧35℃±1℃加速腐蝕測(cè)試

5. JIS H8502:1999：陽(yáng)極氧化膜耐堿滴落試驗(yàn)（10%NaOH溶液）

檢測(cè)設(shè)備

1. ZEISS Sigma 500場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡：配備Bruker Quantax EDS系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)微區(qū)成分定量

2. PARSTAT 4000電化學(xué)工作站：支持10μA~2A電流輸出與1MHz頻率響應(yīng)

3. Thermo Scientific K-Alpha XPS：?jiǎn)紊獳l Kα光源（1486.6eV），空間分辨率30μm

4. Keyence VK-X3000激光共聚焦顯微鏡：408nm激光光源，最大測(cè)量高度10mm

5. Gamry Interface 5000E：支持零電阻安培計(jì)模式進(jìn)行電偶腐蝕測(cè)量

6. Q-Fog CCT1100循環(huán)腐蝕箱：可編程溫濕度控制（RH 20%~95%）

7. Mettler Toledo XP205分析天平：稱量精度0.01mg，滿足微量失重測(cè)量

8. Bruker D8 ADVANCE XRD：Cu靶Kα輻射（λ=1.5406?），物相分析精度±0.01°

9. Agilent 7900 ICP-MS：檢出限低至ppt級(jí)，用于痕量金屬離子濃度測(cè)定

10. Hitachi UH4150紫外分光光度計(jì)：波長(zhǎng)范圍185~900nm，定量溶液吸光度變化

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)