溴化鉻檢測(cè)摘要:溴化鉻作為重要的無(wú)機(jī)化合物,廣泛應(yīng)用于催化劑、陶瓷工業(yè)及表面處理領(lǐng)域。其檢測(cè)需重點(diǎn)關(guān)注純度控制、雜質(zhì)限值及物理化學(xué)性能指標(biāo)。專(zhuān)業(yè)檢測(cè)涵蓋成分分析、晶體結(jié)構(gòu)表征及環(huán)境安全評(píng)估等核心環(huán)節(jié),需依據(jù)國(guó)際/國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)建立系統(tǒng)化質(zhì)量控制體系。
參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。
1. 主成分測(cè)定:Cr含量(62-65%)、Br含量(34-38%)
2. 重金屬雜質(zhì):Pb≤50ppm、As≤20ppm、Hg≤5ppm
3. 晶體結(jié)構(gòu)分析:XRD特征峰匹配度≥98%(2θ范圍10°-80°)
4. 熱穩(wěn)定性測(cè)試:TG-DSC法測(cè)定分解溫度≥450℃
5. 粒徑分布:D10≥0.8μm、D50=1-5μm、D90≤15μm
1. 工業(yè)級(jí)溴化鉻催化劑(固定床/流化床反應(yīng)體系)
2. 特種陶瓷釉料用高純溴化鉻(純度≥99.9%)
3. 電子元件表面鍍層材料(膜厚50-200nm)
4. 金屬表面處理劑(Cr3+濃度0.5-3mol/L)
5. 化工原料中間體(Cl?雜質(zhì)≤0.1%)
1. ASTM E1479-16 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法
2. ISO 11885:2007 水質(zhì)-ICP-OES測(cè)定元素含量
3. GB/T 223.11-2008 鋼鐵及合金化學(xué)分析方法
4. GB/T 23942-2009 化工產(chǎn)品中重金屬測(cè)定的通用方法
5. GB/T 6284-2015 化工產(chǎn)品中水分測(cè)定的通用方法
1. Thermo iCAP 7400 ICP-OES:多元素同步分析(檢出限0.01ppm)
2. Rigaku SmartLab X射線(xiàn)衍射儀:晶體結(jié)構(gòu)解析(精度±0.01°)
3. Mettler Toledo TGA/DSC 3+:熱重-差示掃描聯(lián)用(升溫速率0.1-100℃/min)
4. Malvern Mastersizer 3000:激光粒度分析(量程0.01-3500μm)
5. Agilent 7900 ICP-MS:痕量元素檢測(cè)(ppt級(jí)靈敏度)
6. Metrohm 888 Titrando:自動(dòng)電位滴定儀(分辨率0.1μL)
7. PerkinElmer PinAAcle 900T原子吸收光譜儀:火焰/石墨爐雙模式
8. Bruker S8 TIGER波長(zhǎng)色散X熒光光譜儀:固體樣品無(wú)損檢測(cè)
9. Sartorius Cubis II超微量天平:稱(chēng)量精度0.001mg
10.HORIBA LA-960激光散射儀:比表面積測(cè)定(BET法)
報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急。
資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。
標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。
非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。
售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù)。
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