參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.主成分含量測(cè)定：BeF?純度≥99.5%，采用差示掃描量熱法(DSC)測(cè)定熔融特性

2.痕量金屬雜質(zhì)分析：Al≤50ppm、Fe≤30ppm、Si≤20ppm（ICP-MS法）

3.陰離子殘留檢測(cè)：F?游離量≤0.1%，Cl?≤100ppm（離子色譜法）

4.水分含量測(cè)試：H?O≤0.05%（卡爾費(fèi)休庫(kù)侖法）

5.晶體結(jié)構(gòu)表征：α-BeF?晶型占比≥98%（XRD全譜擬合分析）

檢測(cè)范圍

1.核反應(yīng)堆中子減速劑用高純氟化鈹熔鹽

2.光學(xué)鍍膜級(jí)氟化鈮-氟化鈹復(fù)合靶材

3.特種陶瓷燒結(jié)助劑BeF?粉末（粒徑D50≤5μm）

4.半導(dǎo)體蝕刻廢液中的BeF?殘留物

5.環(huán)境空氣采樣濾膜中的氣溶膠態(tài)BeF?微粒

檢測(cè)方法

ASTMC799-2019《核級(jí)氟化鈹化學(xué)分析方法》規(guī)定主成分滴定法

ISO20565-3:2008《含鈹材料化學(xué)分析-電感耦合等離子體發(fā)射光譜法》

GB/T223.5-2008《鋼鐵及合金化學(xué)分析方法還原型硅鉬酸鹽光度法測(cè)定酸溶硅含量》（適配改良）

GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第4部分：電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測(cè)定元素含量》

EPAMethod6020B《電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定痕量元素》

檢測(cè)設(shè)備

1.ThermoScientificiCAPRQICP-MS：ppb級(jí)痕量元素定量分析

2.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD：0.01角度分辨率晶體結(jié)構(gòu)解析

3.Metrohm917Coulometer：0.1μgH?O分辨率水分測(cè)定儀

4.PerkinElmerPinAAcle900TAAS：火焰/石墨爐雙模式原子吸收光譜儀

5.ShimadzuEDX-7000XRF：Be元素快速篩查（檢出限0.01wt%）

6.Agilent1260InfinityIIHPLC：陰離子色譜分離系統(tǒng)

7.MettlerToledoTGA/DSC3+：同步熱分析儀（升溫速率0.01-100K/min）

8.LeicaDM6M顯微鏡：500倍偏光顯微觀察晶體形貌

9.SartoriusCPA225D分析天平：0.01mg精度稱量系統(tǒng)

10.HoribaLA-960激光粒度儀：0.01-3000μm粒徑分布測(cè)試

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)