沉積平衡檢測(cè)摘要:檢測(cè)項(xiàng)目1.沉積層厚度:測(cè)量范圍0.1-500μm,精度0.5%2.表面粗糙度:Ra值0.01-10μm,符合ISO4287標(biāo)準(zhǔn)3.結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試:劃痕法臨界載荷1-200N4.孔隙率分析:分辨率≤0.1μm孔隙直徑5.熱震穩(wěn)定性:溫度循環(huán)范圍-196℃至1200℃檢測(cè)范圍1.金屬涂層(電鍍層、熱噴涂層)2.陶瓷薄膜(PVD/CVD涂層)3.高分子復(fù)合材料表面處理層4.半導(dǎo)體器件鈍化膜5.光學(xué)鍍膜(AR/IR涂層)檢測(cè)方法1.ASTMB748-90(2016):射線熒光法測(cè)厚2.ISO26423:2016:
參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。
1.沉積層厚度:測(cè)量范圍0.1-500μm,精度0.5%
2.表面粗糙度:Ra值0.01-10μm,符合ISO4287標(biāo)準(zhǔn)
3.結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試:劃痕法臨界載荷1-200N
4.孔隙率分析:分辨率≤0.1μm孔隙直徑
5.熱震穩(wěn)定性:溫度循環(huán)范圍-196℃至1200℃
1.金屬涂層(電鍍層、熱噴涂層)
2.陶瓷薄膜(PVD/CVD涂層)
3.高分子復(fù)合材料表面處理層
4.半導(dǎo)體器件鈍化膜
5.光學(xué)鍍膜(AR/IR涂層)
1.ASTMB748-90(2016):射線熒光法測(cè)厚
2.ISO26423:2016:納米壓痕法結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試
3.GB/T16533-1996:金相顯微鏡孔隙率評(píng)定
4.ASTME384-22:顯微硬度測(cè)試
5.GB/T1771-2007:鹽霧腐蝕試驗(yàn)
1.臺(tái)階儀DektakXT:分辨率0.1的膜厚測(cè)量
2.掃描電鏡JSM-IT800:5nm分辨率形貌分析
3.劃痕測(cè)試儀CSMRevetest:200N最大載荷
4.X射線熒光光譜儀XRF-1800:元素分析精度ppm級(jí)
5.熱震試驗(yàn)箱ATSSERIES3210:30℃/s變溫速率
6.白光干涉儀ZygoNewView9000:三維粗糙度重建
7.納米壓痕儀G200:nN級(jí)載荷控制
8.金相顯微鏡OlympusGX53:1500數(shù)字成像系統(tǒng)
9.鹽霧試驗(yàn)箱Q-FOGCRH1100:復(fù)合循環(huán)腐蝕測(cè)試
10.激光共聚焦顯微鏡LEXTOLS5100:405nm超分辨成像
報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急。
資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。
標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。
非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。
售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù)。
中析沉積平衡檢測(cè) - 由于篇幅有限,僅展示部分項(xiàng)目,如需咨詢?cè)敿?xì)檢測(cè)項(xiàng)目,請(qǐng)咨詢?cè)诰€工程師
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