球狀溶質(zhì)原子檢測摘要:檢測項目1.球狀原子團簇平均直徑:測量范圍0.5-50nm,精度0.2nm(TEM法)2.溶質(zhì)濃度梯度分布:空間分辨率≤1μm(EPMA/WDS)3.界面結(jié)合強度:通過納米壓痕法測定結(jié)合能(單位:mJ/m)4.晶格畸變量分析:XRD半高寬(FWHM)誤差≤0.015.擴散激活能計算:基于Arrhenius方程擬合溫度-擴散系數(shù)曲線(溫度范圍25-1200℃)檢測范圍1.金屬基復合材料:Al-SiC、Ti-Al系高熵合金2.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷:ZrO?-Y?O?納米復相陶瓷3.半導體摻雜層:Si-Ge異質(zhì)外延薄膜
參考周期:常規(guī)試驗7-15工作日,加急試驗5個工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。
1.球狀原子團簇平均直徑:測量范圍0.5-50nm,精度0.2nm(TEM法)
2.溶質(zhì)濃度梯度分布:空間分辨率≤1μm(EPMA/WDS)
3.界面結(jié)合強度:通過納米壓痕法測定結(jié)合能(單位:mJ/m)
4.晶格畸變量分析:XRD半高寬(FWHM)誤差≤0.01
5.擴散激活能計算:基于Arrhenius方程擬合溫度-擴散系數(shù)曲線(溫度范圍25-1200℃)
1.金屬基復合材料:Al-SiC、Ti-Al系高熵合金
2.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷:ZrO?-Y?O?納米復相陶瓷
3.半導體摻雜層:Si-Ge異質(zhì)外延薄膜
4.核反應(yīng)堆材料:ODS鋼中Y-Ti-O納米團簇
5.功能涂層材料:熱障涂層(TBCs)中的Al?O?擴散障
1.ASTME2142-23:掃描電鏡(SEM)結(jié)合能譜(EDS)定量統(tǒng)計團簇分布
2.ISO22262-3:2021:小角X射線散射(SAXS)測定亞微米級原子團尺寸
3.GB/T4339-2022:差示掃描量熱法(DSC)分析溶質(zhì)偏聚動力學
4.ISO14577-4:2016:納米壓痕法測量界面力學性能
5.GB/T13301-2020:三維原子探針(APT)重構(gòu)溶質(zhì)原子三維分布
1.FEINovaNanoSEM450:場發(fā)射掃描電鏡(FESEM),配備BrukerQuantaxEDS系統(tǒng)
2.JEOLJEM-ARM300F:球差校正透射電鏡(STEM),點分辨率0.08nm
3.MalvernPanalyticalEmpyrean:高分辨率XRD系統(tǒng),配備高溫附件(1600℃)
4.CAMECALEAP5000XR:三維原子探針層析儀(APT),質(zhì)量分辨率m/Δm≥2000
5.HysitronTIPremier:原位納米力學測試系統(tǒng)(最大載荷10mN)
6.NetzschSTA449F5Jupiter:同步熱分析儀(DSC-TG聯(lián)用)
7.BrukerDimensionIcon:原子力顯微鏡(AFM),峰值力輕敲模式
8.RigakuNANOPIXmini:微區(qū)X射線熒光光譜儀(μ-XRF),束斑尺寸10μm
9.ZeissCrossbeam550:聚焦離子束-掃描電鏡雙束系統(tǒng)(FIB-SEM)
10.ThermoFisherScios2DualBeam:氦離子顯微鏡(HIM),成像分辨率0.35nm
報告:可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測周期:7~15工作日,可加急。
資質(zhì):旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告。
標準測試:嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測。
非標測試:支持定制化試驗方案。
售后:報告終身可查,工程師1v1服務(wù)。
中析球狀溶質(zhì)原子檢測 - 由于篇幅有限,僅展示部分項目,如需咨詢詳細檢測項目,請咨詢在線工程師
2024-08-24
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2023-06-28