參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.膜層厚度：測(cè)量范圍0.1-5000nm，誤差≤5nm（臺(tái)階儀法）
2.附著力等級(jí)：劃痕法臨界載荷≥20N（ASTMC1624）
3.表面粗糙度：Ra≤0.8μm（白光干涉儀測(cè)量）
4.成分純度：金屬元素含量≥99.95%（XPS分析）
5.耐腐蝕性：鹽霧試驗(yàn)240h無(wú)點(diǎn)蝕（ISO9227）

檢測(cè)范圍

1.磁控濺射制備的不銹鋼薄膜
2.真空蒸鍍鋁/銅復(fù)合膜層
3.PVD法制備的鈦合金裝飾鍍膜
4.半導(dǎo)體晶圓銅互連阻擋層
5.光學(xué)器件銀反射膜

檢測(cè)方法

1.ASTMB487-20《X射線反射法測(cè)薄膜厚度》
2.GB/T9286-2021《劃格法測(cè)定漆膜附著力》
3.ISO14703:2023《掃描電鏡表面形貌分析》
4.GB/T16535-202X《四點(diǎn)探針?lè)娮杪蕼y(cè)試》
5.ASTMF2129-23《電化學(xué)腐蝕測(cè)試規(guī)程》

檢測(cè)設(shè)備

1.KLATencorP-17臺(tái)階儀：分辨率0.1nm
2.BrukerDektakXT輪廓儀：掃描長(zhǎng)度200mm
3.ZeissSigma500場(chǎng)發(fā)射電鏡：分辨率0.8nm@15kV
4.ShimadzuEMAX-7000X射線熒光儀：檢出限1ppm
5.CSMRevetest劃痕測(cè)試儀：最大載荷100N
6.Keysight5500原子力顯微鏡：Z軸精度0.05nm
7.ThermoScientificK-AlphaXPS：空間分辨率3μm
8.GamryReference600+電化學(xué)工作站：電流分辨率10fA
9.BYKGardnermicro-TRI-gloss多角度光澤度計(jì)
10.Q-LabQ-FOGCRH鹽霧試驗(yàn)箱：溫控1℃

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)