參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.波長(zhǎng)范圍校準(zhǔn)：200-800nm全波段覆蓋精度0.05nm
2.分辨率測(cè)試：0.02nm@313.2nm（Hg雙線法）
3.檢出限驗(yàn)證：Cd228.8nm≤0.5μg/L（ICP-OES模式）
4.重復(fù)性測(cè)試：RSD≤1.5%（Fe259.94nm連續(xù)10次測(cè)量）
5.基體效應(yīng)評(píng)估：20%NaCl溶液對(duì)Cu324.75nm信號(hào)抑制率≤15%

檢測(cè)范圍

1.有色金屬材料：鋁基/銅基合金中Fe、Si、Mn等痕量雜質(zhì)（0.001%-0.1%）
2.鋼鐵制品：碳鋼及不銹鋼中C、S、P等非金屬元素（GB/T223系列標(biāo)準(zhǔn)）
3.半導(dǎo)體材料：硅晶圓表面金屬污染（Na、K、Fe等≤1E10atoms/cm）
4.環(huán)境監(jiān)測(cè)：土壤/水體中As、Hg、Pb等重金屬（EPA6010D方法）
5.地質(zhì)礦物：巖石樣品中稀土元素La-Lu定量分析（ISO22036:2008）

檢測(cè)方法

1.ASTME1257-16：金屬樣品前處理及激發(fā)參數(shù)設(shè)定規(guī)范
2.ISO14707:2015：輝光放電光譜法表面分析技術(shù)規(guī)程
3.GB/T20975.25-2020：鋁及鋁合金光電直讀光譜分析方法
4.JISH1630:2014：鈦合金火花源原子發(fā)射光譜標(biāo)準(zhǔn)
5.DIN51009:2013：熔融玻璃體氧化物成分光譜測(cè)定法

檢測(cè)設(shè)備

1.ThermoScientificiCAP7400ICP-OES：軸向觀測(cè)系統(tǒng)，波長(zhǎng)范圍167-852nm
2.PerkinElmerOptima8300：雙單色器設(shè)計(jì)，分辨率≤0.006nm@200nm
3.Agilent5100SVDV：同步垂直雙向觀測(cè)ICP-OES系統(tǒng)
4.HitachiPS3520UV-DD：真空紫外通道擴(kuò)展至165nm
5.GBCQuantimaCCD：全譜直讀型光譜儀，20482048像素陣列
6.BrukerQ4TASMAN：火花源光譜儀，氬氣沖洗光學(xué)室設(shè)計(jì)
7.ShimadzuPDA-7000：等離子體診斷輔助系統(tǒng)
8.SkyrayInstrumentPlasma1000：中階梯光柵交叉色散結(jié)構(gòu)
9.RigakuOE750：真空紫外光學(xué)系統(tǒng)（120-190nm）
10.SpectroARCOSII：40MHz射頻發(fā)生器，功率穩(wěn)定性0.1%

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)