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氧化銣檢測(cè)

2025-05-22 關(guān)鍵詞:氧化銣測(cè)試周期,氧化銣測(cè)試范圍,氧化銣測(cè)試機(jī)構(gòu) 相關(guān):
氧化銣檢測(cè)

氧化銣檢測(cè)摘要:檢測(cè)項(xiàng)目1.純度分析:Rb?O≥99.5%(主成分定量)2.雜質(zhì)元素檢測(cè):Na/K/Ca/Fe≤50ppm(ICP-OES法)3.晶體結(jié)構(gòu)表征:XRD衍射角偏差≤0.024.粒度分布測(cè)試:D50=1-5μm(激光衍射法)5.熱穩(wěn)定性評(píng)估:TG-DSC失重率≤0.5%(800℃恒溫)檢測(cè)范圍1.電子陶瓷基材(微波介質(zhì)材料)2.光學(xué)玻璃添加劑(折射率調(diào)節(jié)劑)3.固體催化劑載體(合成氨催化劑)4.單晶生長原料(鈮酸鋰晶體摻雜劑)5.高純?cè)噭?9.99%級(jí)分析純產(chǎn)品)檢測(cè)方法1.ASTME1584-17《標(biāo)準(zhǔn)火

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.純度分析:Rb?O≥99.5%(主成分定量)
2.雜質(zhì)元素檢測(cè):Na/K/Ca/Fe≤50ppm(ICP-OES法)
3.晶體結(jié)構(gòu)表征:XRD衍射角偏差≤0.02
4.粒度分布測(cè)試:D50=1-5μm(激光衍射法)
5.熱穩(wěn)定性評(píng)估:TG-DSC失重率≤0.5%(800℃恒溫)

檢測(cè)范圍

1.電子陶瓷基材(微波介質(zhì)材料)
2.光學(xué)玻璃添加劑(折射率調(diào)節(jié)劑)
3.固體催化劑載體(合成氨催化劑)
4.單晶生長原料(鈮酸鋰晶體摻雜劑)
5.高純?cè)噭?9.99%級(jí)分析純產(chǎn)品)

檢測(cè)方法

1.ASTME1584-17《標(biāo)準(zhǔn)火花原子發(fā)射光譜法》
2.ISO11885:2007《水質(zhì)-電感耦合等離子體發(fā)射光譜法》
3.GB/T23274-2009《二氧化鈦類物質(zhì)中雜質(zhì)元素測(cè)定》
4.JISK0115:2021《X射線熒光光譜分析通則》
5.GB/T19587-2017《氣體吸附BET法比表面積測(cè)定》

檢測(cè)設(shè)備

1.ThermoScientificARLPERFORM'XX射線熒光光譜儀(元素定量)
2.PerkinElmerOptima8300ICP-OES(痕量元素分析)
3.MalvernMastersizer3000激光粒度儀(粒徑分布測(cè)試)
4.BrukerD8ADVANCEX射線衍射儀(晶體結(jié)構(gòu)解析)
5.NetzschSTA449F3同步熱分析儀(熱穩(wěn)定性評(píng)估)
6.Agilent7890B氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(有機(jī)雜質(zhì)篩查)
7.Metrohm905Titrando自動(dòng)電位滴定儀(酸堿度測(cè)定)
8.ShimadzuUV-2600i紫外可見分光光度計(jì)(吸光度分析)
9.MicromeriticsASAP2460比表面及孔隙度分析儀(比表面積測(cè)定)
10.JEOLJSM-IT800掃描電子顯微鏡(微觀形貌觀測(cè))

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱:中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。

售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)

中析氧化銣檢測(cè) - 由于篇幅有限,僅展示部分項(xiàng)目,如需咨詢?cè)敿?xì)檢測(cè)項(xiàng)目,請(qǐng)咨詢?cè)诰€工程師

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