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宏觀不均勻性檢測(cè)

2025-05-22 關(guān)鍵詞:宏觀不均勻性測(cè)試案例,宏觀不均勻性測(cè)試周期,宏觀不均勻性測(cè)試范圍 相關(guān):
宏觀不均勻性檢測(cè)

宏觀不均勻性檢測(cè)摘要:檢測(cè)項(xiàng)目1.密度偏差檢測(cè):測(cè)量材料體積密度差異(精度0.05g/cm),允許偏差≤0.5%2.成分偏析分析:采用EDS能譜儀測(cè)定元素分布(分辨率≥128eV),最大偏析系數(shù)≤1.83.晶粒尺寸分布:依據(jù)ASTME112標(biāo)準(zhǔn)評(píng)級(jí)(測(cè)量范圍1-500μm),允許G值波動(dòng)1級(jí)4.孔隙率測(cè)定:工業(yè)CT掃描孔隙率(分辨率0.5μm),合格閾值≤0.3%5.殘余應(yīng)力分布:X射線衍射法測(cè)量應(yīng)力梯度(精度20MPa),允許梯度差≤150MPa/mm檢測(cè)范圍1.金屬鑄件:包括鋁合金輪轂、鈦合金航空結(jié)構(gòu)件等鑄造缺陷檢測(cè)2.高

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.密度偏差檢測(cè):測(cè)量材料體積密度差異(精度0.05g/cm),允許偏差≤0.5%

2.成分偏析分析:采用EDS能譜儀測(cè)定元素分布(分辨率≥128eV),最大偏析系數(shù)≤1.8

3.晶粒尺寸分布:依據(jù)ASTME112標(biāo)準(zhǔn)評(píng)級(jí)(測(cè)量范圍1-500μm),允許G值波動(dòng)1級(jí)

4.孔隙率測(cè)定:工業(yè)CT掃描孔隙率(分辨率0.5μm),合格閾值≤0.3%

5.殘余應(yīng)力分布:X射線衍射法測(cè)量應(yīng)力梯度(精度20MPa),允許梯度差≤150MPa/mm

檢測(cè)范圍

1.金屬鑄件:包括鋁合金輪轂、鈦合金航空結(jié)構(gòu)件等鑄造缺陷檢測(cè)

2.高分子復(fù)合材料:碳纖維增強(qiáng)塑料(CFRP)層壓板結(jié)構(gòu)均勻性評(píng)估

3.陶瓷燒結(jié)體:氧化鋯齒科材料致密度分布檢驗(yàn)

4.焊接接頭:核電管道焊縫熔合區(qū)成分偏析分析

5.粉末冶金制品:硬質(zhì)合金刀具鈷相分布均勻度測(cè)試

檢測(cè)方法

1.X射線衍射法:ASTME1426-14測(cè)定殘余應(yīng)力梯度分布

2.超聲波C掃描:ISO19675:2017評(píng)估復(fù)合材料分層缺陷

3.金相定量分析:GB/T13298-2015晶粒度評(píng)級(jí)規(guī)范

4.工業(yè)CT掃描:GB/T35389-2017孔隙率三維重建標(biāo)準(zhǔn)

5.電子探針微區(qū)分析:ISO22309:2011元素面分布測(cè)試規(guī)程

檢測(cè)設(shè)備

1.ZEISSXradia620Versa:亞微米級(jí)三維成像CT系統(tǒng)(分辨率0.7μm)

2.OLYMPUSOmniScanX3:64通道相控陣超聲波探傷儀(頻率1-20MHz)

3.BRUKERD8DISCOVER:X射線殘余應(yīng)力分析儀(Ψ角范圍45)

4.TESCANMIRA4:場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡+牛津EDS系統(tǒng)(分辨率1nm)

5.LEICADM2700M:智能金相顯微鏡(5000:1動(dòng)態(tài)對(duì)比度)

6.SHIMADZUAG-Xplus:100kN材料試驗(yàn)機(jī)(應(yīng)變測(cè)量精度0.5%)

7.THERMOSCIENTIFICARLEQUINOX1000:X射線衍射儀(角度重復(fù)性0.0001)

8.KEYENCEVHX-7000:4K數(shù)碼顯微系統(tǒng)(20-6000倍連續(xù)變焦)

9.NANOVEAST400:白光干涉三維輪廓儀(垂直分辨率0.1nm)

10.MALVERNPANALYTICALEMPYREAN:多功能X射線平臺(tái)(2θ范圍0-168)

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱:中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。

售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)

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