氟化銣檢測(cè)摘要:檢測(cè)項(xiàng)目1.純度測(cè)定:主成分RbF含量≥99.9%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),采用差減法計(jì)算雜質(zhì)總量2.水分含量:游離水≤50ppm(卡爾費(fèi)休法),結(jié)晶水≤0.1%(熱重分析法)3.金屬雜質(zhì)分析:Na≤100ppm、K≤200ppm、Ca≤50ppm(ICP-MS法)4.粒度分布:D50值3-5μm(激光衍射法),D90≤10μm5.晶體結(jié)構(gòu)分析:立方晶系(空間群Fm-3m),晶格常數(shù)a=5.640.02(XRD法)檢測(cè)范圍1.高純氟化銣原料(純度≥99.99%)2.光學(xué)鍍膜用RbF靶材(密度≥3.0g/cm)3.核工
參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。
1.純度測(cè)定:主成分RbF含量≥99.9%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),采用差減法計(jì)算雜質(zhì)總量
2.水分含量:游離水≤50ppm(卡爾費(fèi)休法),結(jié)晶水≤0.1%(熱重分析法)
3.金屬雜質(zhì)分析:Na≤100ppm、K≤200ppm、Ca≤50ppm(ICP-MS法)
4.粒度分布:D50值3-5μm(激光衍射法),D90≤10μm
5.晶體結(jié)構(gòu)分析:立方晶系(空間群Fm-3m),晶格常數(shù)a=5.640.02(XRD法)
1.高純氟化銣原料(純度≥99.99%)
2.光學(xué)鍍膜用RbF靶材(密度≥3.0g/cm)
3.核工業(yè)中子屏蔽材料(硼當(dāng)量≥0.5%)
4.鋰電池電解質(zhì)添加劑(Cl?含量≤10ppm)
5.單晶生長(zhǎng)用RbF前驅(qū)體(位錯(cuò)密度≤10/cm)
1.ASTME1479-16《電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定高純化學(xué)品中痕量元素》
2.ISO21258:2010《固體材料中固定源X射線衍射定量分析》
3.GB/T6283-2008《化工產(chǎn)品中水分含量的測(cè)定卡爾費(fèi)休法》
4.GB/T19077-2016《粒度分析激光衍射法》
5.ISO16258-1:2015《工作場(chǎng)所空氣中可吸入結(jié)晶二氧化硅的X射線衍射分析》
1.ThermoScientificiCAPRQICP-MS:痕量金屬元素分析(檢出限0.01ppb)
2.MalvernMastersizer3000:激光粒度分析儀(測(cè)量范圍0.01-3500μm)
3.BrukerD8ADVANCEXRD:Cu靶X射線源(2θ范圍5-140)
4.MettlerToledoTGA/DSC3+:同步熱分析儀(溫度范圍25-1600℃)
5.Metrohm917Coulometer:庫(kù)侖法水分測(cè)定儀(分辨率0.1μgH?O)
6.PerkinElmerLambda950UV-Vis:紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)(波長(zhǎng)175-3300nm)
7.Agilent7890BGC-MS:氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(EI源70eV)
8.ShimadzuEDX-8000:能量色散X熒光光譜儀(Na-U元素分析)
9.JEOLJSM-7900F:場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(分辨率0.8nm@15kV)
10.HoribaLabRAMHREvolution:拉曼光譜儀(532nm激光器)
報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急。
資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。
標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。
非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。
售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù)。
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