參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。

檢測項目

1.正電子壽命譜測量：時間分辨率≤250ps，測量范圍0.1-10ns
2.多普勒展寬能譜分析：能量分辨率≤1.3keV@511keV
3.三維動量分布測量：角關(guān)聯(lián)精度0.1mrad
4.缺陷濃度定量分析：靈敏度≥510¹⁵cm^-3
5.空位型缺陷尺寸測定：分辨率0.1-2nm

檢測范圍

1.金屬及合金材料：鋁合金晶界缺陷、鈦合金空位簇
2.半導(dǎo)體材料：硅基器件界面態(tài)密度、GaN位錯密度
3.高分子聚合物：自由體積分?jǐn)?shù)測定（0.1-5nm尺度）
4.陶瓷復(fù)合材料：ZrO₂相變?nèi)毕轁舛确治?br/>5.納米功能材料：碳納米管束間空隙分布表征

檢測方法

1.ASTME2215-19正電子湮滅壽命譜標(biāo)準(zhǔn)測試方法
2.ISO20156:2020多普勒展寬能譜數(shù)據(jù)處理規(guī)程
3.GB/T39123-2020正電子譜儀校準(zhǔn)規(guī)范
4.GB/T39124-2020金屬材料缺陷濃度測定方法
5.ISO/IEC17025:2017實驗室通用技術(shù)要求

檢測設(shè)備

1.OrtecModel576A高純鍺探測器：能量分辨率1.25keV@1.33MeV
2.CanberraModel2100多通道分析儀：4096道ADC轉(zhuǎn)換精度
3.FastComTecP7889時間數(shù)字轉(zhuǎn)換器：25ps時間分辨率
4.Eckert&ZieglerNa-22放射源：活度50μCi5%
5.Kapton真空樣品室：極限真空度510^-6mbar
6.OrtecModel926符合電路模塊：時間窗調(diào)節(jié)范圍1-100ns
7.HamamatsuH3378PMT探測器：量子效率≥30%@400nm
8.LakeshoreModel331溫控系統(tǒng)：控溫精度0.1℃
9.AgilentE4980ALCR表：介電常數(shù)測量精度0.05%
10.BrukerD8AdvanceXRD聯(lián)用系統(tǒng)：角度重復(fù)性0.0001

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告。

標(biāo)準(zhǔn)測試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測。

非標(biāo)測試：支持定制化試驗方案。

售后：報告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)