參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務調整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質的個人除外)。

檢測項目

化學成分檢測：

• 有機溶劑殘留量：≤0.5%（參照SEMI P1）
• 金屬離子濃度：Na+≤1ppb, K+≤1ppb（參照JIS K5600）

• 粘度測量：25°C時值20-50cP（參照ASTM D2196）
• 表面張力：達因/cm范圍38-42（參照ISO 304）

• 折射率指數(shù)：1.40-1.60（參照ISO 489）
• 紫外吸收光譜：波長365nm吸收率≥95%（參照ASTM E308）

• 曝光靈敏度：閾值能量≤50mJ/cm2（參照SEMI P7）
• 分辨率測試：線寬分辨率≤0.2μm（參照ISO 12233）

• 玻璃化轉變溫度：Tg≥120°C（參照ASTM D3418）
• 熱分解溫度：≥250°C（參照ISO 11358）

• 膜厚均勻性：偏差≤±5%（參照SEMI P10）
• 附著強度：≥5MPa（參照ASTM D3359）

• 乙酸乙酯含量：≤100ppm（參照GB/T 9722）
• 丙酮殘留：檢測限0.01ppm（參照ISO 16000）

• 儲存壽命試驗：30天穩(wěn)定性變化≤3%（參照JIS K7230）
• 光老化測試：UV照射后性能衰減≤10%（參照ASTM G154）

• 粒子計數(shù)：≥0.5μm粒子數(shù)≤100/mL（參照SEMI P25）
• 水分含量：≤0.1%（參照ISO 760）

• 濕度影響測試：相對濕度95%下變化率≤5%（參照IEC 60068）
• 溫度循環(huán)性能：-40°C至85°C循環(huán)無失效（參照JEDEC JESD22）

檢測范圍

1. 正性光刻膠：適用于UV光刻工藝，檢測重點包括感光靈敏度和分辨率控制

2. 負性光刻膠：用于深紫外曝光，側重化學成分純度和熱穩(wěn)定性評估

3. 厚膜光刻膠：膜厚≥10μm，優(yōu)先檢測粘度均勻性和機械強度

4. 薄膜光刻膠：膜厚≤1μm，核心檢測項目為光學特性和表面缺陷

5. i-line光刻膠：針對365nm波長，重點評估紫外吸收率和感光閾值

6. g-line光刻膠：用于436nm曝光，檢測范圍包括熱分解溫度和環(huán)境適應性

7. 化學放大光刻膠：涉及PAG組分，檢測重點為殘留溶劑和分辨率性能

8. 電子束光刻膠：適用于高精度制程，側重膜厚均勻性和粒子計數(shù)

9. 納米壓印光刻膠：用于圖案轉移，檢測范圍覆蓋附著強度和存儲壽命

10. 生物相容光刻膠：應用于生物芯片，核心檢測項目包括化學成分安全性和熱穩(wěn)定性

檢測方法

國際標準：

• SEMI P1-2020 光刻膠溶劑殘留測試（采用氣相色譜法）
• ISO 12233-2017 光刻膠分辨率評估（基于成像分析法）
• ASTM D2196-2021 粘度測定標準流變儀法（旋轉粘度計應用）
• JESD22-A104D 溫度循環(huán)測試（循環(huán)次數(shù)標準100次）
• IEC 60068-2-78 濕度穩(wěn)定性試驗（恒定濕熱條件）

• GB/T 9722-2006 溶劑殘留氣相色譜法（檢測限差異：GB為0.1ppm vs SEMI 0.01ppm）
• GB/T 1731-2020 膜厚均勻性測試（接觸式測量 vs ISO非接觸式）
• GB/T 1843-2008 機械強度拉伸試驗（加載速率差異：GB 5mm/min vs ASTM 10mm/min）
• GB/T 2423.1-2008 環(huán)境適應性試驗（溫濕度范圍 GB -25°C~85°C vs IEC -40°C~85°C）
• GB/T 2918-2018 水分含量測定（卡爾費休法參數(shù)差異：GB使用甲醇溶劑 vs ISO使用乙醇）

檢測設備

1. 氣相色譜儀： Agilent 8890型（檢測限0.01ppm，分辨率≤0.1nm）

2. 紫外分光光度計： Shimadzu UV-2600型（波長范圍190-900nm，精度±0.5nm）

3. 旋轉粘度計： Brookfield DV2T型（測量范圍1-106cP，溫度控制±0.1°C）

4. 膜厚測量儀： KLA Tencor P-16型（非接觸式，精度±0.1nm）

5. 熱分析儀： Netzsch STA449F3型（溫度范圍-150°C~1600°C，靈敏度0.1μg）

6. 粒度分析儀： Malvern Mastersizer3000型（粒徑范圍0.01-3500μm，重現(xiàn)性≤1%）

7. 萬能材料試驗機： Instron 5967型（載荷0.5N-30kN，應變速率0.001-500mm/min）

8. 光學顯微鏡： Olympus BX53型（放大倍數(shù)50-1000X，分辨率0.2μm）

9. 環(huán)境試驗箱： ESPEC PL-3KPH型（溫控范圍-70°C~180°C，濕度10-95%）

10. 表面張力儀： Kruss K100型（測量方法懸滴法，精度±0.1mN/m）

11. 電子天平： Mettler Toledo XS205型（稱量范圍0-220g，精度0.01mg）

12. 離子色譜儀： Thermo Scientific ICS-6000型（檢測限0.1ppb，流速0.1-5mL/min）

13. 光譜橢偏儀： J.A. Woollam M-2000型（波長240-1700nm，膜厚精度±0.1nm）

14. 熱重分析儀： PerkinElmer STA8000型（升溫速率0.1-100°C/min，質量精度0.1μg）

15. 激光共聚焦顯微鏡： Leica TCS SP8型（Z軸分辨率0.1μm，3D成像能力）

北京中科光析科學技術研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質版)。

檢測周期：7~15工作日，可加急。

資質：旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質報告。

標準測試：嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測。

非標測試：支持定制化試驗方案。

售后：報告終身可查，工程師1v1服務。

中析儀器 資質