參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

粒度分布參數(shù)：

• 粒徑區(qū)間：D10、D50、D90（參照ISO13320）
• 累計(jì)分布：累積百分比曲線斜率
• 分布寬度：跨度值（Span≤1.5）

• 篩分效率系數(shù)：η≥0.85
• 殘留量：殘留百分比≤5%

• 球形度指數(shù)：≥0.7
• 長(zhǎng)寬比：1.0-3.0

• 堆密度：0.5-2.0g/cm3
• 振實(shí)密度偏差：±0.05g/cm3

• 含水量影響：干燥失重≤0.5%
• 吸濕率：≤0.1g/h

• 沉降速率：1-10mm/s
• 堵塞系數(shù)：≤0.05

• 振動(dòng)頻率響應(yīng)：10-60Hz
• 振幅影響：0.5-3mm

• 篩孔尺寸偏差：±0.01mm
• 磨損率評(píng)估：≤0.1%

• 殘留顆粒計(jì)數(shù)：100-5000個(gè)
• 異物檢出率：≥99%

• 正態(tài)分布擬合：R2≥0.95
• 對(duì)數(shù)正態(tài)參數(shù)：μ值范圍

檢測(cè)范圍

1.建筑材料：砂石骨料及水泥粉末，重點(diǎn)檢測(cè)粒徑均勻性與級(jí)配曲線一致性

2.化工粉末：催化劑和顏料顆粒，側(cè)重微粉含量控制與團(tuán)聚風(fēng)險(xiǎn)分析

3.食品顆粒：谷物和添加劑粉末，關(guān)鍵監(jiān)控粒徑安全性及溶解速率

4.醫(yī)藥粉末：藥物活性成分，強(qiáng)調(diào)微米級(jí)分布精度與流動(dòng)性評(píng)估

5.礦業(yè)礦石：礦砂和精礦粉末，著重粗顆粒殘留率與分選效率

6.陶瓷原料：粘土和釉料顆粒，核心檢測(cè)粒徑分布寬度與燒成收縮影響

7.塑料顆粒：聚合物樹(shù)脂，重點(diǎn)監(jiān)控熔融指數(shù)相關(guān)性及混料均勻性

8.金屬粉末：合金和添加劑粉體，側(cè)重松裝密度與壓制特性關(guān)聯(lián)分析

9.環(huán)境樣品：土壤和粉塵顆粒，著重污染物粒徑分布與沉降行為建模

10.實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)樣品：校準(zhǔn)用參考粉末，核心驗(yàn)證篩分重復(fù)性與偏差控制

檢測(cè)方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：

• ISO13320:2020激光衍射粒度分析
• ASTMB214-16金屬粉末篩分試驗(yàn)
• ISO3310-1:2016試驗(yàn)篩技術(shù)要求和檢驗(yàn)

• GB/T6003.1-2022金屬絲編織網(wǎng)試驗(yàn)篩
• GB/T19077-2016粒度分布激光衍射法
• GB/T14684-2022建筑用砂篩分試驗(yàn)方法

檢測(cè)設(shè)備

1.振動(dòng)篩分機(jī)：Ro-TapRX-29（振幅范圍0.5-3mm，時(shí)間精度±1s）

2.激光粒度分析儀：Mastersizer3000（粒徑范圍0.01-3500μm，分辨率0.1%）

3.電子天平：SartoriusCPA225D（量程220g，精度0.0001g）

4.干燥箱：MemmertUN110（溫度范圍40-250℃，均勻性±0.5℃）

5.顯微鏡系統(tǒng)：OlympusBX53（放大倍數(shù)50-1000x，圖像分辨率5μm）

6.密度測(cè)定儀：QuantachromeUltrapyc1200e（壓力范圍0-200kPa，精度±0.01g/cm3）

7.顆粒計(jì)數(shù)器：BeckmanCoulterMultisizer4（計(jì)數(shù)速率1000顆粒/s，尺寸范圍0.4-1600μm）

8.濕度控制器：EspecSH-222（濕度范圍10-98%RH，穩(wěn)定性±1%）

9.篩網(wǎng)校準(zhǔn)器：EndecottsOctagon200（校準(zhǔn)精度±0.005mm，最大篩徑300mm）

10.數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)：MalvernMorphologi4（自動(dòng)成像速度100幀/s，存儲(chǔ)容量1TB）

11.振實(shí)密度儀：CopleyJV2000（振動(dòng)頻率100-300次/min，振幅3mm）

12.粉末流動(dòng)性測(cè)試儀：BEP2（流速范圍1-100g/s，角度可調(diào)0-90°）

13.殘留物分析裝置：RetschAS200（篩分面積200cm2，殘留收集效率99.5%）

14.環(huán)境模擬艙：WeissTechnikWK11-600（溫度范圍-70-180℃，濕度控制精度±2%）

15.分布擬合軟件：MalvernMastersizerSoftwareSuite（算法模型包括Rosin-Rammler，擬合誤差≤0.5%）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)