參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

表面粗糙度檢測(cè)：

• 表面平整度：Ra值（≤10nm，參照ISO25178）、Rz值（峰谷高度差≤50nm）
• 三維拓?fù)浞治觯壕礁植诙龋≧MS≤5nm）、表面斜率偏差（標(biāo)準(zhǔn)值±10°）

• 層數(shù)確認(rèn)：單層或多層判定（偏差±1層，參照ASTMF2792）
• 平均厚度測(cè)量：納米級(jí)厚度精度（分辨率0.1nm）、厚度均勻性（CV值≤5%）

• 點(diǎn)缺陷密度：缺陷數(shù)量/μm2（標(biāo)準(zhǔn)上限1×10^{12}/cm2）
• 邊緣缺陷評(píng)級(jí)：鋸齒度指數(shù)（等級(jí)1-5）、裂紋長度比例（≤5%）
• 孔洞檢測(cè)：孔徑分布（范圍5-100nm）、孔密度（≤10/μm2）

• 晶格常數(shù)測(cè)量：碳原子間距（0.142±0.001nm）
• 六方結(jié)構(gòu)確認(rèn)：晶格畸變故比例（≤2%，參照ISO14577）

• 污染物濃度：氧含量（≤5wt%）、金屬雜質(zhì)（≤0.1ppm）
• 官能團(tuán)密度：羥基覆蓋率（標(biāo)準(zhǔn)值0.5-2groups/nm2）、羧基分布（偏差±10%）

• 載流子遷移率影響因子：表面散射率（≤10%）
• 表面電勢(shì)分布：電位差范圍（±50mV）、均勻性指數(shù)（≥0.9）

• 硬度分布：納米壓痕硬度（≥10GPa）、楊氏模量（1.0±0.1TPa）
• 彈性變形分析：泊松比（0.16-0.18）、屈服強(qiáng)度（≥100MPa）

• 熱導(dǎo)率相關(guān)性：聲子散射系數(shù)（≤0.1）
• 表面熱穩(wěn)定性：熱膨脹系數(shù)（-6×10^{-6}/K）、熔點(diǎn)偏差（≤5℃）

• 反射率均勻性：反射系數(shù)CV值（≤3%）
• 透射率分布：透光率（97.7±0.3%）、光譜響應(yīng)一致性（偏差±2nm）

• 表面親水性：接觸角（60±5°）
• 生物分子吸附密度：蛋白質(zhì)吸附量（≤0.1μg/cm2，參照ISO10993）

檢測(cè)范圍

1.單層石墨烯薄膜：重點(diǎn)檢測(cè)表面粗糙度均勻性、原子級(jí)缺陷密度和層間一致性，確保電子遷移率穩(wěn)定性。

2.多層石墨烯納米片：側(cè)重于厚度分布精確測(cè)量、層間堆疊缺陷分析和邊緣結(jié)構(gòu)完整性評(píng)估。

3.石墨烯氧化物薄膜：聚焦表面官能團(tuán)分布均勻性、污染物殘留濃度和還原后結(jié)構(gòu)恢復(fù)度檢測(cè)。

4.還原氧化石墨烯：核心檢測(cè)點(diǎn)缺陷密度、碳氧比偏差和導(dǎo)電性能相關(guān)表面形貌變化。

5.石墨烯復(fù)合材料：重點(diǎn)分析界面結(jié)合形貌、填料分散均勻性和機(jī)械應(yīng)力分布影響。

6.石墨烯量子點(diǎn)：側(cè)重尺寸分布一致性、表面缺陷量子效應(yīng)和熒光性能相關(guān)拓?fù)錂z測(cè)。

7.石墨烯泡沫：強(qiáng)調(diào)孔隙結(jié)構(gòu)三維拓?fù)?、孔壁厚度均勻性和壓縮回彈性表面特征。

8.石墨烯納米帶：核心檢測(cè)邊緣平滑度、寬度分布精度和電學(xué)性能相關(guān)表面電位。

9.石墨烯功能化表面：聚焦化學(xué)修飾層覆蓋率、官能團(tuán)密度均勻性和生物兼容性測(cè)試。

10.石墨烯基電子器件：重點(diǎn)評(píng)估電極界面形貌、表面污染影響和熱穩(wěn)定性相關(guān)缺陷分布。

檢測(cè)方法

國際標(biāo)準(zhǔn)：

• ISO25178-2:2022表面紋理：輪廓法測(cè)量表面粗糙度參數(shù)
• ASTMF2792-22石墨烯層數(shù)和缺陷密度測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)方法
• ISO14577-1:2021材料硬度和材料參數(shù)儀器化壓痕試驗(yàn)
• ISO10993-5:2022醫(yī)療器械生物學(xué)評(píng)價(jià)：體外細(xì)胞毒性試驗(yàn)

• GB/T13298-2022金屬顯微組織檢驗(yàn)方法（適用于結(jié)構(gòu)表征）
• GB/T4340.1-2021金屬維氏硬度試驗(yàn)（用于納米壓痕校準(zhǔn)）
• GB/T2918-2021塑料薄膜和薄片厚度測(cè)定方法（適配石墨烯厚度檢測(cè)）
• GB/T18834-2021表面化學(xué)分析X射線光電子能譜通則（用于污染物分析）

檢測(cè)設(shè)備

1.原子力顯微鏡：BrukerDimensionIcon（分辨率0.1nm，掃描范圍100μm）

2.掃描隧道顯微鏡：ParkSystemsNX20（原子級(jí)分辨率，隧道電流穩(wěn)定度±1%）

3.拉曼光譜儀：RenishawinVia（激光波長532nm，光譜分辨率1cm^{-1}）

4.掃描電子顯微鏡：HitachiSU8000（分辨率1.0nm，加速電壓0.5-30kV）

5.透射電子顯微鏡：JEOLJEM-2100（點(diǎn)分辨率0.19nm，放大倍數(shù)50-1500kX）

6.X射線光電子能譜儀：ThermoScientificK-Alpha（檢測(cè)限0.1at%，能量分辨率0.5eV）

7.橢偏儀：J.A.WoollamM-2000（波長范圍190-1700nm，厚度精度±0.1nm）

8.納米壓痕儀：AgilentG200（載荷范圍1μN(yùn)-500mN，位移分辨率0.01nm）

9.原子力顯微鏡-紅外聯(lián)用系統(tǒng)：AnasysnanoIR3（空間分辨率<10nm，光譜范圍2.5-16μm）

10.熒光顯微鏡：OlympusBX63（激發(fā)波長405nm，檢測(cè)靈敏度0.1光子/秒）

11.共聚焦顯微鏡：LeicaTCSSP8（橫向分辨率120nm，三維成像深度100μm）

12.光學(xué)輪廓儀：ZygoNewView9000（垂直分辨率0.03nm，掃描速度10mm/s）

13.表面等離子體共振儀：ReichertSR7500DC（角度精度0.001°，折射率分辨率10^{-6}）

14.石英晶體微天平：Q-SenseE4（質(zhì)量靈敏度±0.1ng/cm2，頻率范圍5-50MHz）

15.Kelvin探針力顯微鏡：BrukerIcon-PFT（表面電位分辨率1mV，掃描尺寸50μm）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)