參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

腐蝕速率測(cè)試：

• 均勻腐蝕速率：失重法測(cè)定（g/m2·h，參照ASTMG31-21）
• 局部腐蝕評(píng)估：點(diǎn)蝕因子計(jì)算（≥1.5為合格）
• 時(shí)間依賴性分析：腐蝕深度隨時(shí)間變化曲線（周期≥720h）

• 極化曲線測(cè)試：腐蝕電位（Ecorr）、腐蝕電流密度（icorr，參照ASTMG59-97）
• 電化學(xué)阻抗譜：相位角（θ）、阻抗模量（|Z|）
• 恒電位極化：點(diǎn)蝕電位（Epit）測(cè)量（偏差±5mV）

• 點(diǎn)蝕深度測(cè)量：最大深度（μm，ISOJianCe63標(biāo)準(zhǔn)）
• 裂紋擴(kuò)展分析：裂紋長(zhǎng)度增長(zhǎng)率（mm/s）
• 表面粗糙度：Ra值（μm，≤0.8為合格）

• 慢應(yīng)變速率試驗(yàn)：斷裂時(shí)間（h，ASTMG129-00）
• 應(yīng)力強(qiáng)度因子：KISCC閾值（MPa√m）
• 裂紋萌生檢測(cè)：初始裂紋尺寸（mm）

• 酸堿溶液浸泡：pH值范圍1-14（周期168h）
• 高溫高壓腐蝕：溫度≤200°C，壓力≤10MPa
• 鹽霧試驗(yàn)：NaCl濃度5wt%（參照ISO9227）

• 金相組織觀察：晶粒度評(píng)級(jí)（G≥6級(jí)）
• 夾雜物檢測(cè)：非金屬夾雜物尺寸（μm，ASTME45）
• 相組成分析：XRD衍射峰強(qiáng)度比

• 拉伸強(qiáng)度保留率：抗拉強(qiáng)度下降≤10%（參照GB/T228.1-2021）
• 硬度變化：維氏硬度偏差（ΔHV≤20）
• 韌性衰減：沖擊功損失率（≤15%）

• 合金元素含量：Cr、Mo等偏差（±0.05wt%）
• 雜質(zhì)元素限制：S、P含量（≤0.03wt%）
• 表面涂層成分：涂層厚度均勻性（±5μm）

• 縫隙深度測(cè)量：最大深度（mm）
• 腐蝕產(chǎn)物分析：氧化物層厚度（μm）
• 臨界縫隙尺寸：縫隙寬度閾值（mm）

• 循環(huán)載荷試驗(yàn)：疲勞壽命（周期次數(shù)）
• 腐蝕疲勞裂紋：擴(kuò)展速率（mm/cycle）
• 失效模式分析：斷口形貌分類

檢測(cè)范圍

1.奧氏體不銹鋼：涵蓋304L至316L牌號(hào)，重點(diǎn)檢測(cè)氯化物介質(zhì)中的點(diǎn)蝕敏感性與晶間腐蝕傾向

2.雙相不銹鋼：如2205和2507系列，側(cè)重相比例平衡對(duì)縫隙腐蝕及應(yīng)力腐蝕開裂的影響

3.鎳基合金：包括HastelloyC-276，核心評(píng)估高溫酸環(huán)境下的均勻腐蝕速率與氧化行為

4.鈦合金：如Ti-6Al-4V，聚焦還原性介質(zhì)中的氫脆風(fēng)險(xiǎn)及表面鈍化膜穩(wěn)定性

5.鋁合金：涵蓋5052至7075牌號(hào)，重點(diǎn)測(cè)試堿溶液浸泡后的晶間腐蝕深度與力學(xué)性能保留率

6.銅合金：如黃銅C26800，側(cè)重氨環(huán)境下應(yīng)力腐蝕開裂閾值與脫鋅現(xiàn)象分析

7.碳鋼及低合金鋼：涵蓋Q235至16MnR，核心檢測(cè)酸性介質(zhì)中的均勻腐蝕速率與氫致開裂敏感性

8.聚合物復(fù)合材料：如PTFE涂層，重點(diǎn)評(píng)估有機(jī)溶劑浸泡后的溶脹率與界面粘結(jié)強(qiáng)度變化

9.陶瓷涂層材料：如氧化鋁涂層，聚焦高溫氧化環(huán)境下的剝落傾向與微裂紋擴(kuò)展

10.金屬基復(fù)合材料：如碳纖維增強(qiáng)鋁，核心驗(yàn)證混合介質(zhì)中的電偶腐蝕效應(yīng)與界面退化

檢測(cè)方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：

• ASTMG31-21實(shí)驗(yàn)室浸沒腐蝕試驗(yàn)
• ASTMG5-14動(dòng)電位陽(yáng)極極化測(cè)量
• ISO7539-7:2005慢應(yīng)變速率應(yīng)力腐蝕試驗(yàn)
• ASTMG61-86循環(huán)極化曲線測(cè)試
• ISO9227:2022中性鹽霧試驗(yàn)
• ASTMG48-11點(diǎn)蝕和縫隙腐蝕試驗(yàn)
• ISO17475:2005電化學(xué)阻抗譜方法

• GB/T10124-2022金屬均勻腐蝕全浸試驗(yàn)方法
• GB/T4334.9-2020不銹鋼點(diǎn)蝕電位測(cè)量
• GB/T15970.7-2019金屬應(yīng)力腐蝕試驗(yàn)
• GB/T21633-2020金屬縫隙腐蝕加速試驗(yàn)
• GB/T2423.17-2022鹽霧試驗(yàn)方法
• GB/T31976-2015電化學(xué)阻抗譜測(cè)試
• GB/T6384-2021金屬腐蝕產(chǎn)物分析方法（國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)注重試樣尺寸統(tǒng)一性，如ASTM規(guī)定直徑25mm試樣；國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)調(diào)環(huán)境參數(shù)控制，GB/T10124要求溶液溫度偏差±1°C）

檢測(cè)設(shè)備

1.電化學(xué)工作站：VersaSTAT4型（電位范圍±10V，電流分辨率0.1pA）

2.腐蝕試驗(yàn)箱：CCT-1000型（溫度范圍-40°C至200°C，濕度控制±2%）

3.鹽霧試驗(yàn)機(jī)：Q-FOGCRH-600型（噴霧量1-2ml/80cm2/h，溫度精度±0.5°C）

4.萬(wàn)能材料試驗(yàn)機(jī)：Instron8862型（載荷范圍0.01-100kN，應(yīng)變速率0.0001-1000mm/min）

5.掃描電子顯微鏡：HitachiSU5000型（分辨率1nm，加速電壓0.5-30kV）

6.X射線衍射儀：PANalyticalEmpyrean型（角度范圍5-90°，精度0.0001°）

7.金相顯微鏡：OlympusBX53M型（放大倍數(shù)50-1000×，圖像分辨率5MP）

8.高精度天平：MettlerToledoXS205型（量程0-200g，精度0.01mg）

9.恒電位儀：GamryInterface1010E型（電流范圍±2A，電位分辨率10μV）

10.環(huán)境模擬艙：ESPECPL-3型（壓力范圍0-15MPa，氣體濃度控制±1%）

11.表面輪廓儀：BrukerDektakXT型（掃描長(zhǎng)度50mm，垂直分辨率0.1nm）

12.光譜分析儀：ThermoScientificARL4460型（元素檢測(cè)限0.001%，波長(zhǎng)范圍165-800nm）

13.疲勞試驗(yàn)機(jī)：ShimadzuEHF系列（頻率范圍0.01-100Hz，載荷精度±0.5%）

14.高溫高壓反應(yīng)釜：Parr4560型（溫度上限300°C，壓力上限20MPa）

15.數(shù)碼顯微鏡：KeyenceVHX-7000型（三維成像精度1μm，放大倍數(shù)20-5000×）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)