參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。

檢測項目

表面殘留量測定：采用重量分析法，檢測范圍0.1-50mg/m2，分辨率0.01mg

顆粒粒徑分布分析：激光散射法檢測0.1-500μm顆粒，D50/D90分級精度±2%

元素成分鑒定：EDX能譜檢測元素范圍Be-U，檢出限0.1wt%

表面形貌觀測：SEM掃描電鏡放大倍率10-300,000×，分辨率3nm

有機物殘留檢測：FTIR光譜分析范圍4000-400cm?1，檢測限0.5μg/cm2

檢測范圍

金屬加工件：涵蓋鋁合金、鈦合金等切削件表面油污檢測

電子元器件：PCB板焊后助焊劑殘留物檢測（符合IPC-A-610標準）

精密儀器組件：光學鏡頭、陀螺儀等超凈表面微粒檢測

光學材料：玻璃基板、濾光片表面離子污染檢測

醫(yī)療植入物：人工關(guān)節(jié)等器械清洗驗證（參照ISO 19227）

檢測方法

ISO 8502-3：表面可溶性鹽污染檢測（電導(dǎo)率法）

ASTM E1617-09：表面金屬污染物X射線熒光光譜分析法

ISO 14644-1：潔凈室微粒計數(shù)法（≥0.5μm顆粒分級）

ASTM D4327：陰離子污染物離子色譜檢測法

ISO 18562-4：揮發(fā)性有機物熱脫附-氣相色譜聯(lián)用檢測

檢測設(shè)備

FEI Quanta 650 FEG：場發(fā)射掃描電鏡，配備EDAX Octane Elite能譜儀

Malvern Mastersizer 3000：激光粒度分析儀，濕法/干法雙模式

Thermo Scientific Nexsa G2：X射線光電子能譜儀，單色Al Kα射線源

Agilent 8900 ICP-MS/MS：三重四極桿質(zhì)譜儀，檢出限達ppt級

Bruker LUMOS II：顯微傅里葉紅外光譜儀，空間分辨率1μm

技術(shù)優(yōu)勢

CNAS認可實驗室（注冊號L12345），檢測數(shù)據(jù)國際互認

配備ISO/IEC 17025認證的質(zhì)量管理體系

技術(shù)團隊含5名ASTM標準委員會成員，參與制定12項行業(yè)標準

配置Class 100超凈實驗室環(huán)境，溫控精度±0.5℃

建立材料表面數(shù)據(jù)庫，含2000+種污染物特征光譜

中析儀器 資質(zhì)