參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。

檢測項目

1.純度測定：采用X射線熒光光譜法（XRF）或電感耦合等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES），檢測范圍≥99.5%，誤差0.2%。

2.雜質(zhì)元素分析：包括鈉（Na）、鉀（K）、鈣（Ca）等金屬雜質(zhì)，限值≤50ppm；氯（Cl?）、硫酸根（SO??）等非金屬雜質(zhì)限值≤100ppm。

3.晶體結(jié)構(gòu)表征：通過X射線衍射（XRD）測定晶胞參數(shù)a=4.230.02，空間群Fm-3m。

4.熱穩(wěn)定性測試：熱重分析（TGA）評估分解溫度≥800℃，升溫速率10℃/min。

5.溶解性測試：測定在去離子水中的溶解度（25℃條件下≥120g/100mL），pH值范圍10.5-11.8。

檢測范圍

1.光學(xué)玻璃原料：用于高折射率透鏡制造的Cs?O粉末及預(yù)制體。

2.電子陶瓷元件：包含壓電陶瓷基片、介電層材料的成品及半成品。

3.核醫(yī)學(xué)屏蔽材料：含Cs?O的輻射防護玻璃及復(fù)合材料。

4.催化劑載體：用于有機合成反應(yīng)的Cs?O摻雜型催化劑。

5.科研級樣品：實驗室合成的超純Cs?O單晶或納米粉末。

檢測方法

1.GB/T25934.3-2010《高純化學(xué)試劑分析方法第3部分》：規(guī)定ICP-MS法測定痕量金屬雜質(zhì)。

2.ASTME1479-16《標(biāo)準(zhǔn)指南描述化學(xué)分析用樣品制備》：適用于XRF前處理流程。

3.ISO20565-3:2008《含鉻耐火制品化學(xué)分析》：擴展應(yīng)用于Cs?O中陰離子檢測。

4.GB/T17413.2-2010《鋰銣銫化學(xué)分析方法》：涵蓋滴定法測定主成分含量。

5.JISK0068:1992《化學(xué)制品熔點測定方法》：指導(dǎo)差示掃描量熱法（DSC）測試。

檢測設(shè)備

1.ThermoScientificARLQUANT'XXRF光譜儀：能量分辨率<130eV，元素檢測范圍Na-U。

2.PerkinElmerOptima8300ICP-OES：軸向觀測等離子體系統(tǒng)，檢出限低至ppb級。

3.RigakuMiniFlex600X射線衍射儀：Cu靶Kα輻射源（λ=1.5406），掃描速度0.02/s。

4.MettlerToledoTGA/DSC3+同步熱分析儀：溫度范圍25-1600℃，稱重精度0.1μg。

5.Metrohm905Titrando自動電位滴定儀：支持動態(tài)滴定模式，精度0.1μL。

6.Agilent7900ICP-MS：配備碰撞反應(yīng)池技術(shù)，檢出限<0.1ppt。

7.MalvernMastersizer3000激光粒度儀：測量范圍0.01-3500μm，重復(fù)性誤差<1%。

8.HORIBALabRAMHREvolution拉曼光譜儀：空間分辨率<1μm，光譜范圍200-2100cm?。

9.BrukerD8ADVANCEXRD系統(tǒng)：配備LYNXEYEXE-T探測器，掃描速度達5000dps。

10.ShimadzuUV-2600i分光光度計：波長范圍220-1400nm，帶寬可調(diào)至0.1nm。

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告。

標(biāo)準(zhǔn)測試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測。

非標(biāo)測試：支持定制化試驗方案。

售后：報告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)