參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。

檢測項目

1.粒徑分布：測定0.1μm-3500μm范圍內(nèi)的體積/數(shù)量分布
2.D50值：確定中位粒徑精度1%
3.比表面積：BET法測量范圍0.01-2000m/g
4.顆粒形貌：球形度與長徑比定量分析
5.Zeta電位：測量范圍200mV（適用于膠體體系）
6.孔隙率：孔徑分布測試0.35-500nm

檢測范圍

1.金屬粉末：鈦合金/鋁合金等增材制造原料
2.陶瓷粉末：氧化鋁/碳化硅等燒結(jié)材料
3.藥品原料：API顆粒/藥用輔料
4.納米材料：量子點/碳納米管等新型材料
5.工業(yè)粉體：水泥/涂料/催化劑等生產(chǎn)原料

檢測方法

1.激光衍射法：ASTMB822-20/GB/T19077-2016
2.動態(tài)光散射法：ISO22412-2017/GB/T19627-2005
3.篩分分析法：ISO2591-1:1988/GB/T6003.1-2012
4.氣體吸附法：ISO9277:2010/GB/T19587-2017
5.圖像分析法：ASTME2651-19/GB/T21649.1-2008

檢測設(shè)備

1.MalvernMastersizer3000：激光衍射儀（0.01-3500μm）
2.BeckmanCoulterLS13320：多波長粒度分析儀
3.MicromeriticsTriStarIIPlus：比表面及孔隙度分析儀
4.HoribaSZ-100Z：納米顆粒Zeta電位分析儀
5.SympatecHELOS/RODOS：干法分散激光粒度儀
6.ShimadzuSALD-7500nano：納米粒度分析系統(tǒng)
7.BettersizeBT-9300ST：濕法激光粒度儀
8.AntonPaarLitesizer500：動態(tài)光散射分析儀
9.MicrotracMRBCAMSIZERX2：動態(tài)圖像分析系統(tǒng)
10.QuantachromeNOVA4200e：多站比表面測定儀

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告。

標(biāo)準(zhǔn)測試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測。

非標(biāo)測試：支持定制化試驗方案。

售后：報告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)