參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.氧空位濃度測(cè)定：測(cè)量單位體積內(nèi)氧空位數(shù)量（cm?），精度5%

2.空位分布表征：三維空間分辨率≤1nm，元素面分布成像

3.空位形成能計(jì)算：基于DFT理論模擬（0-10eV范圍）

4.電子態(tài)密度分析：費(fèi)米能級(jí)5eV范圍內(nèi)態(tài)密度曲線

5.遷移活化能測(cè)試：溫度范圍300-1200K，精度0.05eV

檢測(cè)范圍

1.金屬氧化物：TiO?、ZnO、CeO?等半導(dǎo)體/催化材料

2.鈣鈦礦結(jié)構(gòu)材料：SrTiO?、LaCoO?等能源轉(zhuǎn)換器件

3.固態(tài)電解質(zhì)：YSZ、LLZO等鋰離子導(dǎo)體

4.二維材料：MoS?、h-BN等層狀化合物

5.高溫超導(dǎo)材料：YBCO、BSCCO等銅氧化物

檢測(cè)方法

1.X射線光電子能譜法（XPS）：ISO15472:2010表面化學(xué)分析標(biāo)準(zhǔn)

2.電子順磁共振（EPR）：ASTME3039-15順磁特性測(cè)試規(guī)范

3.正電子湮滅譜（PAS）：GB/T39498-2020缺陷表征方法

4.拉曼光譜分析：ISO20310:2017晶格振動(dòng)模式識(shí)別

5.透射電子顯微鏡（TEM）：GB/T35033-2018原子尺度缺陷觀測(cè)

檢測(cè)設(shè)備

1.ThermoScientificK-AlphaXPS：?jiǎn)紊疉lKα源（1486.6eV），空間分辨率30μm

2.BrukerEMXplusEPR：工作頻率9-10GHz，溫度范圍4-500K

3.JEOLJEM-ARM300FTEM：球差校正電鏡，點(diǎn)分辨率0.05nm

4.RenishawinViaRaman：532/785nm雙激光源，光譜分辨率1cm?

5.OrtecHPGeγ能譜儀：能量分辨率≤1.8keV@1.33MeV

6.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD：Cu靶Kα輻射（λ=1.5406）

7.QuantumDesignPPMS-9TEC：綜合物性測(cè)量系統(tǒng)（1.9-400K）

8.Agilent5500AFM：接觸/輕敲雙模式，Z軸分辨率0.1nm

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱(chēng)：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)