參考周期：常規(guī)試驗7-15工作日，加急試驗5個工作日。

注意：因業(yè)務調整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質的個人除外)。

檢測項目

1.粒徑分布：D10(1-100μm)、D50(5-500μm)、D90(10-1000μm)三值分布曲線

2.形狀系數：圓形度(0.7-1.0)、長徑比(1.0-5.0)、球形度(0.6-1.0)

3.表面粗糙度：Ra值(0.01-2.5μm)、Rz值(0.05-10μm)

4.孔隙率：開孔率(5-95%)、閉孔率(0.5-30%)

5.Zeta電位：60mV范圍內表面電荷分布

檢測范圍

1.金屬粉末：鈦合金/鋁合金/銅基粉末冶金材料

2.陶瓷顆粒：氧化鋁/碳化硅/氮化硼結構陶瓷

3.高分子材料：聚乙烯/聚丙烯/聚酰胺工程塑料粒子

4.藥品顆粒：片劑崩解顆粒/緩釋微球/吸入粉霧劑

5.納米材料：碳納米管/量子點/金屬氧化物納米顆粒

檢測方法

ASTMB822-20《金屬粉末粒度分布標準測試方法》

ISO13322-1:2014《粒度分析圖像法第1部分：靜態(tài)圖像分析》

GB/T19077-2016《粒度分布激光衍射法》

ISO9277:2010《BET法測定固態(tài)物質比表面積》

GB/T19627-2005《粒度分析光子相關光譜法》

檢測設備

1.MalvernMastersizer3000激光粒度儀：測量范圍0.01-3500μm

2.MicromeriticsTriStarII3020比表面分析儀：孔徑分析0.35-500nm

3.HitachiSU3500掃描電鏡：分辨率3nm@30kV

4.BeckmanCoulterDelsaMaxProZeta電位儀：測量范圍500mV

5.OlympusDSX1000數碼顯微鏡：20-7000倍連續(xù)變倍

6.HoribaParticaLA-960V2激光散射儀：干濕法雙模式測量

7.AntonPaarLitesizer500納米粒度儀：動態(tài)光散射技術

8.KeyenceVHX-7000三維形貌分析系統(tǒng)：景深擴展顯微技術

9.SympatecHELOS/KR動態(tài)圖像分析儀：在線粒徑監(jiān)測系統(tǒng)

10.ShimadzuSALD-7500nano納米粒度儀：紫外激光光源

北京中科光析科學技術研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質版)。

檢測周期：7~15工作日，可加急。

資質：旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質報告。

標準測試：嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測。

非標測試：支持定制化試驗方案。

售后：報告終身可查，工程師1v1服務。

中析儀器 資質