入射平面檢測摘要:檢測項目1.入射角度偏差:測量實際入射面與理論平面的角度誤差(0.05)2.表面平整度:采用激光干涉法評估平面度(λ/20@632.8nm)3.反射率均勻性:通過分光光度計測定反射率波動(≤1.5%)4.邊緣直線度:使用影像測量系統(tǒng)量化邊緣偏離值(≤3μm/100mm)5.涂層厚度一致性:白光干涉儀測量鍍膜厚度公差(5nm)檢測范圍1.光學玻璃基板:包括熔融石英、BK7等材質(zhì)制成的棱鏡與窗口片2.金屬鍍膜材料:鋁、銀反射鏡及ITO導(dǎo)電薄膜3.半導(dǎo)體晶圓:硅片、砷化鎵襯底的表面加工質(zhì)量4.高分子薄膜:PET
參考周期:常規(guī)試驗7-15工作日,加急試驗5個工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個人除外)。
1.入射角度偏差:測量實際入射面與理論平面的角度誤差(0.05)
2.表面平整度:采用激光干涉法評估平面度(λ/20@632.8nm)
3.反射率均勻性:通過分光光度計測定反射率波動(≤1.5%)
4.邊緣直線度:使用影像測量系統(tǒng)量化邊緣偏離值(≤3μm/100mm)
5.涂層厚度一致性:白光干涉儀測量鍍膜厚度公差(5nm)
1.光學玻璃基板:包括熔融石英、BK7等材質(zhì)制成的棱鏡與窗口片
2.金屬鍍膜材料:鋁、銀反射鏡及ITO導(dǎo)電薄膜
3.半導(dǎo)體晶圓:硅片、砷化鎵襯底的表面加工質(zhì)量
4.高分子薄膜:PET/PC材質(zhì)的偏振片與濾光膜
5.陶瓷基板:氮化鋁/氧化鋁封裝基板的平面特性
1.ASTME430-21:基于標準光源的反射率測試規(guī)范
2.ISO10110-5:2015:光學元件面形公差評定準則
3.GB/T1185-2006:光學零件面形偏差檢驗方法
4.ISO14978:2018:幾何量測量設(shè)備通用校準規(guī)范
5.GB/T1800.2-2020:產(chǎn)品幾何技術(shù)規(guī)范(GPS)基礎(chǔ)
1.ZygoVerifireHD激光干涉儀:面形精度λ/20,重復(fù)性<0.5nm
2.MitutoyoCMM三坐標測量機:空間精度(0.8+L/600)μm
3.BrukerContourGT白光干涉儀:垂直分辨率0.1nm
4.OceanInsightHR4000光譜儀:波長范圍200-1100nm
5.KeyenceVHX-7000數(shù)碼顯微鏡:5000倍超景深觀測
6.PerkinElmerLambda1050分光光度計:反射率絕對精度0.08%
7.TaylorHobsonFormTalysurf輪廓儀:Ra測量范圍0.01-50μm
8.NikonNEXIVVM-500影像測量系統(tǒng):雙遠心鏡頭畸變<0.03%
9.MalvernPanalyticalMastersizer3000:粒度分析分辨率10nm
10.Agilent5500原子力顯微鏡:Z軸分辨率0.1nm
報告:可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測周期:7~15工作日,可加急。
資質(zhì):旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告。
標準測試:嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測。
非標測試:支持定制化試驗方案。
售后:報告終身可查,工程師1v1服務(wù)。
中析入射平面檢測 - 由于篇幅有限,僅展示部分項目,如需咨詢詳細檢測項目,請咨詢在線工程師
2024-08-24
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