參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

主要成分分析：

• 氧氣純度：純度≥99.5%（參照ISO 6142）
• 氮?dú)饧兌龋杭兌取?9.999%（參照GB/T 8979）

• 露點(diǎn)溫度：露點(diǎn)≤-70°C（參照ASTM E1064）
• 水分含量：濃度≤0.0001%（參照ISO 8573-4）

• 甲烷含量：濃度≤0.001%（參照ISO 6975）
• 乙烷含量：濃度≤0.0005%（參照ASTM D7833）

• 二氧化碳含量：濃度≤0.001%（參照ASTM D7649）
• 硫化氫含量：濃度≤0.0001%（參照ISO 6326）

• 氬氣純度：純度≥99.99%（參照GB/T 4842）
• 氦氣純度：純度≥99.999%（參照ASTM F307）

• 氫氣純度：純度≥99.99%（參照ISO 14687）
• 可燃?xì)怏w濃度：濃度≤0.1%（參照EN 60079-20-1）

• 懸浮顆粒尺寸：尺寸≤0.1μm（參照ISO 8573-1）
• 顆粒濃度：數(shù)量≤1000個(gè)/m3

• 長(zhǎng)期濃度變化：變化率≤0.1%/年（參照GB/T 38523）
• 短期漂移：漂移值≤0.05%（參照ISO 6143）

• 標(biāo)氣成分偏差：偏差±0.5%（參照ISO 6143）
• 混合物均勻性：均勻度≥99%

• 金屬雜質(zhì)含量：濃度≤0.001ppb（參照SEMI C3.061）
• 硅烷純度：純度≥99.9999%（參照SEMI C3.041）

檢測(cè)范圍

1. 高純氧氣：應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝，檢測(cè)重點(diǎn)為水分殘留和碳?xì)浠衔镫s質(zhì)，確保純度≥99.999%

2. 醫(yī)用氧氣：用于呼吸治療設(shè)備，側(cè)重檢測(cè)細(xì)菌滋生風(fēng)險(xiǎn)、水分含量和一氧化碳雜質(zhì)，符合醫(yī)療安全標(biāo)準(zhǔn)

3. 工業(yè)氮?dú)猓?/strong>涵蓋金屬熱處理過(guò)程，重點(diǎn)檢測(cè)氧氣雜質(zhì)濃度和顆粒物含量，防止氧化反應(yīng)

4. 焊接保護(hù)氣體：如氬氣混合物，檢測(cè)氧氣和氮?dú)怆s質(zhì)，確保焊接質(zhì)量穩(wěn)定

5. 激光切割氣體：包括氮?dú)馀c氧氣混合氣，側(cè)重純度和顆粒物分析，優(yōu)化切割精度

6. 食品級(jí)二氧化碳：用于碳酸飲料，檢測(cè)硫化物和烴類雜質(zhì)，保障食品安全

7. 特種氣體混合物：如校準(zhǔn)用氣體，檢測(cè)成分準(zhǔn)確性和長(zhǎng)期穩(wěn)定性，滿足精密儀器需求

8. 氫氣燃料：用于燃料電池系統(tǒng)，重點(diǎn)檢測(cè)一氧化碳和硫雜質(zhì)，防止催化劑中毒

9. 惰性氣體包裝：如氦氣密封氣體，檢測(cè)泄漏率和純度，延長(zhǎng)產(chǎn)品保質(zhì)期

10. 電子工業(yè)氣體：包括硅烷和氨氣，側(cè)重金屬雜質(zhì)和顆粒物分析，支持芯片制造

檢測(cè)方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：

• ISO 6142 Gas analysis - Preparation of calibration gas mixtures - Gravimetric method
• ISO 6974 Natural gas - Determination of composition by gas chromatography
• ASTM E1064 JianCe Test Method for Water in Organic Liquids by Coulometric Karl Fischer Titration
• ISO 6326 Gas analysis - Determination of sulfur compounds
• ISO 14687 Hydrogen fuel quality specification

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)：

• GB/T 8979 Pure nitrogen specifications
• GB/T 4842 Pure argon specifications
• GB/T 38523 Technical specification for stability test of calibration gas mixtures
• GB/T 5832.1 Analytical method for trace water in gases
• GB/T 3634.2 Pure hydrogen specifications

（方法差異說(shuō)明：國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)如ISO 6974采用多柱系統(tǒng)提高分辨率，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T 8979簡(jiǎn)化采樣流程；ASTM E1064使用庫(kù)侖滴定法，而GB/T 5832.1基于露點(diǎn)測(cè)量，檢測(cè)限存在±10%差異；ISO 14687對(duì)氫氣雜質(zhì)要求更嚴(yán)格，GB/T 3634.2增加本地校準(zhǔn)規(guī)范）

檢測(cè)設(shè)備

1. 氣相色譜儀：Agilent 7890B GC System（檢測(cè)限達(dá)0.1ppm，柱溫范圍-80°C至450°C）

2. 熱導(dǎo)檢測(cè)器：Shimadzu TCD-2010（靈敏度0.1μV/mV，線性范圍0.1-100%）

3. 火焰離子化檢測(cè)器：PerkinElmer FID System（檢測(cè)限0.01ppm，響應(yīng)時(shí)間<1s）

4. 電子捕獲檢測(cè)器：Thermo Scientific ECD（檢測(cè)限0.001ppb，動(dòng)態(tài)范圍10^6）

5. 質(zhì)譜檢測(cè)器：Agilent 5977B MSD（質(zhì)量范圍1-1050u，分辨率0.1u）

6. 水分分析儀：Michell Instruments QMA601（露點(diǎn)范圍-80°C至+20°C，精度±0.1°C）

7. 氣體采樣閥：Valco Instruments VICI Valve（耐壓1000psi，死體積<0.1μL）

8. 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)：National Instruments LabVIEW（采樣率100Hz，兼容多種接口）

9. 校準(zhǔn)氣體發(fā)生器：KIN-TEK Trace Source（精度±1%，流量范圍0-1000sccm）

10. 顆粒計(jì)數(shù)器：PMS LAS-3000（粒徑檢測(cè)0.1-10μm，計(jì)數(shù)精度±5%）

11. 氣體純化器：SAES PureGas Generator（輸出純度99.9999%，處理能力10L/min）

12. 流量控制器：Brooks SLA5850（流量范圍0-1000sccm，穩(wěn)定性±0.5%）

13. 溫度控制箱：Watlow EZ-ZONE RM（溫度穩(wěn)定性±0.1°C，范圍-40°C至150°C）

14. 壓力調(diào)節(jié)器：Swagelok KHB Series（輸出壓力0-6000psi，泄露率<10^-9 mbar·L/s）

15. 自動(dòng)進(jìn)樣器：Agilent G4513A（樣品容量150位，進(jìn)樣精度±0.1μL）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)